Panoramica del Settore dei PF
Il Settore dei PF comprende i due politecnici federali di Zurigo e Losanna (EPFL), i quattro istituti di ricerca PSI, WSL, Empa ed Eawag. Fanno anche parte del Settore dei PF il Consiglio dei PF e la Commissione di ricorso dei PF.
Il Settore dei PF comprende i due politecnici federali di Zurigo (ETH di Zurigo) e Losanna (EPFL), i quattro istituti di ricerca PSI (Istituto Paul Scherrer), WSL (Istituto federale di ricerca per la foresta, la neve e il paesaggio), Empa (Laboratorio federale di prova dei materiali e di ricerca) ed Eawag (Istituto federale per l’approvvigionamento, la depurazione e la protezione delle acque).
Con i suoi numerosi siti, il Settore dei PF è ben ancorato nelle differenti regioni svizzere.
Fanno anche parte del Settore dei PF il Consiglio dei PF in qualità di organo di direzione strategica e la Commissione di ricorso dei PF quale organo responsabile per la risoluzione delle controversie nel Settore dei PF. I due politecnici e i quattro istituti di ricerca intendono
- formare studenti e personale qualificato nei campi scientifico e tecnico e garantirne il perfezionamento permanente,
- dedicarsi alla ricerca e contribuire in tal modo allo sviluppo delle conoscenze scientifiche,
- incoraggiare la formazione di nuove leve scientifiche,
- fornire servizi di carattere scientifico e tecnico,
- curare le pubbliche relazioni e valorizzare i risultati delle loro ricerche.
Nell’ambito del Messaggio sulla promozione dell’educazione, della ricerca e dell’innovazione negli anni 2021–2024 (Messaggio ERI), il Consiglio federale e il Parlamento concretizzano gli obiettivi strategici del Consiglio federale per il Settore dei PF. Nel quadro di questi obiettivi, il Consiglio dei PF definisce la strategia del Settore dei PF, la sostiene nei confronti della politica e delle autorità federali e riferisce regolarmente sullo stato del raggiungimento degli obiettivi. La direzione operativa delle istituzioni è affidata ai due politecnici e ai quattro istituti di ricerca del Settore dei PF.
